无锡中晶材料科技有限公司
中晶纳米氧化铝抛光粉（镜面抛光）
我公司生产TWA 300纳米的抛光粉是做金相抛光的**材料，同时还适合不锈钢镜面抛光，钛金属抛光，铸铁抛光，铝材镜面抛光，大理石石材镜面抛光，油漆抛光，树脂抛光，PCB电路板抛光，玻璃抛光，光学玻璃，眼镜镜片抛光，树脂镜片抛光，蓝宝石抛光，LED抛光，锗抛光，锌抛光，抛光快，光亮度好，无划伤。
氧化铝抛光粉用于蓝宝石抛光比氧化硅的抛光速率快3倍左右，每小时能抛7-10um。
概要与特点：
无锡中晶材料科技有限公司为迎合市场需求，采用独特的生产工艺，利用国内外先进的生产设备，通过严谨的生产流程制作而成的纳米氧化铝抛光粉为高纯度白色粉末，是玻璃、水钻、水晶、金属、各种石材系列精抛纳米材料。该产品具有以下优越性能：
1、晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀；
2、磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好；
3、研磨效率高，抛光效果好，研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料，表面光洁度优于白刚玉的抛光效果，切削力强、出光快、能抛出均匀而明亮的兴泽。
规格:
| 项目 | 指标 | ||
| 型 号 | TWA 0.2 | TWA 0.3 | TWA 0.5 |
| 外 观 | 白色粉末 | 白色粉末 | 白色粉末 |
| 晶 型 | a相 | α相 | α相 |
| 含 量﹪≥ | 99.99% | 99.99% | 99.99% |
| 中位粒径 D50 | 0.2um | 0.3um | 0.5um |
用途
1、人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光（机器抛光、滚动抛光）、手动抛光（研磨抛光）等。
2、铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。
3、金属表面抛光。
4、抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石，大理石、花冈岩、水晶、光学玻璃的表面抛光。
5、汽车油漆打磨抛光，手机外壳油漆抛光等。
用量
推荐用量为1～20％，使用者应根据不同体系经过试验决定*佳添加量。
包装
20公斤/每箱（内衬PE塑料袋）
注意
1.请不要浸水。
2.请不要用湿手触摸。
3.请佩戴防尘护罩、安全眼镜、防护手套。
4.请不要漏出，漏出时请即时清扫干净。
中晶微米级氧化铝抛光粉（精抛）
.【产品性能】
本公司生产的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化铝产品，采用独特的生产工艺，利用国内外先进的生产设备，通过严谨的生产流程制作而成。该产品具有以下优越性能：
●晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀；
●磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好；
●研磨效率高，抛光效果好，研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料，表面光洁度优于白刚
玉的抛光效果，切削力强、出光快
| 产品粒度分布 微米（µm） | |||||||
| 规格型号 | 平均粒度（D50值) | 粒度目数（＃） | 晶型 | 含量%> | 外观 | ||
| TWA1 | 1.0±0.2 | 8000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA2 | 2.2±0.4 | 6000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA3 | 3.1±0.4 | 4000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA5 | 4.7±0.5 | 3000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA9 | 6.4±0.6 | 2000＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA GF1 | 7.0±0.6 | 2200＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA12 | 8.4±o.6 | 1500＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
| TWA15 | 10.5±1.5 | 800＃ | α相 | 99.62% | 白色粉末 | ||
【适用范围及建议】
①人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光（机器抛光、滚动抛光）、手动抛光（研磨抛光）等。
②铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。
③金属表面抛光。
④抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石，大理石、花冈岩、水晶等！
中晶微米级氧化铝抛光粉（中抛）
半导体行业：单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛
| 半导体领域 | ||||
【产品规格】 | ||||
| 产品型号 | 中值粒径D50（μm） | 晶型 | 含量%> | 标准（国标） |
| TWA 20 | 14.5±1.0 | α相 | 99.62 | #800 |
| TWA 15 | 10.2±0.8 | α相 | 99.62 | #1000 |
| TWA 12 | 9.20±0.6 | α相 | 99.62 | #1200 |
| TWA 9 | 6.40±0.5 | α相 | 99.62 | #2000 |
| TWA GF1 | 7.00±0.5 | α相 | 99.62 | #2500 |
【产品性能】 CA专用半导体研磨粉，韧性高，耐磨，不易造成划伤、生产时未添加化学助剂。同期和日本FUJIMI FO产品进行对比，研磨效率同期提高1.5倍，表面平坦度TTV有所提高，易于清洗。
【适用范围及建议】 精密研磨半导体单晶硅片、化合物半导体（砷化镓晶体，铌酸锂晶体等）。
光学玻璃、光电晶体领域
【产品规格】
| 产品型号 | 晶型 | 中值粒径D50（μm） | 标准 | 国标准 |
| TWA30 | α相 | 21.5±1.5 | #600 | W28 |
| TWA20 | α相 | 14.5±1.3 | #800 | W20 |
| TWA15 | α相 | 10.2±0.8 | #1000 | W14 |
| TWA9 | α相 | 6.4±0.6 | #2000 | W10 |
| TWA5 | α相 | 4.7±0.5.5 | #3000 | W5 |
| TWA3 | a相 | 3.1±0.4 | #4000 | W3.5 |
【性能】
TWA系列氧化铝研磨粉，其高韧性、高磨削效率，耐磨性好，同期和绿碳化硅磨料对比，其研磨效率高出1.5~2倍，且研磨加工后工件表面品质较高。
【适用范围】
专门用于光学镜片、手机玻璃镜片、树脂镜片、手表玻璃和棱镜、光学镜头等。
中晶微米级氧化铝抛光粉（粗抛）
光学玻壳领域
【产品规格】
| 产品型号 CODE | 中值粒径D50（μm） | 标准 | 国标 |
| TWA45 | 35.0±2.0 | #360 | W50 |
| TWA30 | 20.5±1.5 | #600 | W28 |
| TWA20 | 14.5±1.0 | #800 | W20 |
【特点】
① 外观呈纯白色，韧性高，不易压碎，耐磨性好。
② 形状呈六角平板状，不容易造成划伤，悬浮性好。
③ 研磨效率和传统研磨粉相比，速率高出2-3倍，且加工后产品表面平坦度好于传统磨料，并为后期抛光加工省去了不必要的麻烦。
【适用范围】
适用于显像管玻壳、光学镜片的研磨加工。特别适合大尺寸玻壳、玻屏的研磨加工。
联系：冯总 18762687182