PGS系列纳米级α‑氧化铝抛光粉,
PGS系列纳米级α‑氧化铝抛光粉采用全陶瓷湿法工艺制备,粉体单分散性好,不易团聚,水中悬浮稳定性强。严格管控杂质含量,专为抛光液生产、CMP化学机械抛光开发,满足半导体、光学元件高端精密抛光需求。
产品特点
11.纳米级粒径,优异分散性能,粉体不易团聚结块
12.悬浮稳定性高,浆料长时间存放不易分层沉降
13.高纯低杂质,满足半导体、光学器件洁净生产要求
14.适配水性体系,是抛光液生产核心原料
15.可供应干粉,也可定制预分散成品抛光浆料
型号规格
| 型号 | D50(μm) | 适用工序 |
| PGS‑1.0 | 1.0 | CMP/精抛 |
| PGS‑1.5 | 1.5 | CMP/精抛 |
| PGS‑3.0 | 3.0 | 中‑精抛 |
| PGS‑6.0 | 6.0 | 中抛 |
理化指标
Al₂O₃≥99.6%,Fe₂O₃≤0.04%,SiO₂≤0.03%,Na₂O≤0.02%,莫氏硬度9.0,真密度3.95~3.98g/cm³,外观白色粉末。
应用领域
半导体CMP抛光、手机玻璃盖板、光学镜头、激光晶体、精密陶瓷抛光液原料。
使用说明
干粉建议搭配分散剂,使用去离子水高速搅拌分散,避免团聚;可直接用于抛光液复配。建议先小批量试样,匹配自身设备与浆料配方。
包装储存
25kg/袋(内衬PE防潮袋),可定制小包装;存放于阴凉干燥通风库房,密封保质期24个月。

