片状氧化铝抛光粉采用高纯氧化铝作为原料, 在严格粒度分布控制下, *小粒度能够达到0.3um。
晶体呈四边菱形状、 粒度分布范围窄、不易产生划痕、磨削力强。
用途：1) 单晶硅片的研磨、抛光。2) 水晶镜片的研磨抛光。3) 手机外壳等铝合金材料及不锈钢材料的抛光。4) 不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光。5) 等离子喷涂。6)光学玻璃, 激光晶体, 光学晶体, 光学塑料, 半导体, 金属合金, 陶瓷, 等。
产品信息
发布时间：2026-08-15
片状氧化铝抛光粉采用高纯氧化铝作为原料, 在严格粒度分布控制下, *小粒度能够达到0.3um。
晶体呈四边菱形状、 粒度分布范围窄、不易产生划痕、磨削力强。
用途：1) 单晶硅片的研磨、抛光。2) 水晶镜片的研磨抛光。3) 手机外壳等铝合金材料及不锈钢材料的抛光。4) 不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光。5) 等离子喷涂。6)光学玻璃, 激光晶体, 光学晶体, 光学塑料, 半导体, 金属合金, 陶瓷, 等。